ASML阿斯麦公司的历史

年，电子巨头飞利浦和芯片机制造商AdvancedSemiconductorMaterialsInternational（ASMI）成立了一家新公司，为不断增长的半导体市场开发光刻系统，这家公司就叫做ASML，最初的ASML的办公室在荷兰埃因霍温（Eindhoven）飞利浦办公室旁边的一个漏水的棚屋里。

在20世纪70年代初以来一直在进行的研发的基础上，年推出了第一个系统，PAS步进器。由于发展迅速，飞利浦和ASMI扩大了投资规模，帮助ASML取得成功。

年，ASML公司有名员工，搬进了位于Veldhoven的新建办公室和工厂，距离飞利浦研究实验室只有几公里。

年，将PAS步进器推向市场，采用了新的对准技术，这将是未来许多创新的基础。同年，ASML与镜头制造商卡尔蔡司建立了现有的合作伙伴关系。

年，飞利浦在台湾成立合资铸造厂后，ASML开始在亚洲市场进行制造。在美国，从几名员工发展到84名，分布在五个办公地点。但在一个竞争激烈、供应商众多的市场上，这家来自荷兰的不知名的小公司，客户很少，无法自立。更糟糕的是，股东ASMI无法维持回报率很低的高投资水平，决定退出，而全球电子行业情况急转直下，飞利浦宣布了一项大规模的成本削减计划。ASML这家年轻的吞噬现金的光刻公司的生命危在旦夕。在对正在进行的研发和急需资金的坚定信念的引导下，ASML高管联系了飞利浦董事会成员HenkBodt，后者说服了他的同事们伸出最后的援助之手。这项投资得到了很好的利用。在这一年内，ASML推出了一个突破性平台PAS。凭借其业界领先的生产力和分辨率，PAS为ASML带来了盈利所需的关键客户，这是走向成熟的第一步。

年，ASML成为一家完全独立的上市公司，在阿姆斯特丹和纽约证券交易所上市。飞利浦在首次公开募股中出售了一半的股份，并在接下来的几年里出售了其余股份。首次公开募股带来了资金，进一步推动了ASML的增长，ASML扩大了位于Veldhoven的DeRun的研发和生产设施，后来成为ASML的新总部。

年，ASML引进了TWINSCAN系统及其革命性的双级技术。这些系统在测量和对准下一个晶片时暴露出一个晶片，这最大限度地提高了系统的生产力和准确性，提高了客户的所有权价值。同年，ASML完成了对硅谷集团的收购，以进一步加强ASML在半导体技术方面的能力。

TWINSCANAT:i于年首次作为第一台浸入式机器亮相，随后是TWINSCANXT:i、XT:i，年是第一台批量生产的浸入式机器XT:i。

年，推出了TWINSCANXT:i浸没系统，其数值孔径为1.35，为业界最高。有了这项新技术，ASML使客户能够通过透镜和晶片之间的一层水投射光线，从而生产更小的芯片功能。

年晚些时候，ASML收购了领先的半导体设计和制造优化解决方案提供商BRION。这是“整体光刻”战略的开始。ASML将光刻系统的知识与优化光刻前、光刻中和光刻后芯片制造工艺的技能相结合。整体光刻战略早期阶段的另一个关键产品是YieldStar，这是ASML的计量系统，在芯片制造过程中提供实时测量和校正。第一台YieldStar（D）于年交付给客户。

年，ASML向一家亚洲芯片制造商的研究机构运送了第一台极紫外（EUV）光刻工具原型（NXE:3），标志着光刻新时代的开始。EUV光刻使用更短波长的光来制造更小的芯片特征，从而产生更快、更强大的芯片。

年，ASML收购了总部位于圣地亚哥的光刻光源制造商Cymer，以加快EUV的开发。当年，交付了第二代EUV系统（NXE:），年又交付了第三代EUV系统（NXE:）。EUV光刻机在年转危为安，当时客户开始批量订购第一个生产就绪系统NXE:。在此期间，ASML不断提高浸没式光刻系统的性能，芯片行业的主力NXTCi和NXTDi已安装在世界各地的客户工厂。

年，ASML收购了领先的电子束计量工具供应商HermesMicrovision（HMI），扩大了整体光刻产品组合。电子束图案保真度计量系统（ePfm5）于年首次发货。

年，总部位于荷兰代尔夫特（Delft）的高科技公司Mapper被清算后，ASML同意收购该公司的知识产权资产，还为Mapper在研发和产品组装方面的高技能员工提供合适的职位。

年初，EUV进入大批量生产，EUV系统完成了第次发货。

ASML的下一代EUV平台的开发在加快进行，其数值孔径更高，为0.55（“High-NA”）。这个名为EXE的平台具有新颖的光学设计和明显更快的载物台。将在年向客户交付第一批EXE系统。

上面的文字基于ASML

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